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Sous-collection Electronique et micro-électronique
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Titre : Imagerie médicale à base de photons : radiologie, tomographie X, tomographie gamma et positons, imagerie optique Type de document : texte imprimé Auteurs : Hervé Fanet, Directeur de publication, rédacteur en chef Editeur : Paris : Hermès science publications-Lavoisier Année de publication : 2010 Collection : Traité EGEM Sous-collection : Electronique et micro-électronique Importance : 368 p Présentation : ill. en noir et en coul. Format : 24 cm ISBN/ISSN/EAN : 978-2-7462-1978-6 Note générale : Bibliogr. p. 354-365. Notes bibliogr. Index Langues : Français (fre) Mots-clés : Imagerie médicale Appareils et matériel Imagerie médicale Informatique Imagerie médicale Technique Imagerie médicale à base de photons : radiologie, tomographie X, tomographie gamma et positons, imagerie optique [texte imprimé] / Hervé Fanet, Directeur de publication, rédacteur en chef . - Paris : Hermès science publications-Lavoisier, 2010 . - 368 p : ill. en noir et en coul. ; 24 cm. - (Traité EGEM. Electronique et micro-électronique) .
ISBN : 978-2-7462-1978-6
Bibliogr. p. 354-365. Notes bibliogr. Index
Langues : Français (fre)
Mots-clés : Imagerie médicale Appareils et matériel Imagerie médicale Informatique Imagerie médicale Technique Réservation
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Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité EL/F161-1 EL/F161-1 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F161-2 EL/F161-2 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F161-3 EL/F161-3 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F161-4 EL/F161-4 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F161-5 EL/F161-5 Périodique Technologie indéterminé Disponible
Titre : Matériaux piézoélectriques intégrés sur silicium Type de document : texte imprimé Auteurs : Emmanuel Defay, Directeur de publication, rédacteur en chef Editeur : Paris : Hermès science publications-Lavoisier Année de publication : 2010 Collection : Traité EGEM Sous-collection : Electronique et micro-électronique Importance : 421 p Présentation : ill. Format : 24 cm ISBN/ISSN/EAN : 978-2-7462-2991-4 Note générale : Notes bibliogr. Index Langues : Français (fre) Mots-clés : Matériaux piézoélectriques Diélectriques Résonateurs électriques Résumé : Ce livre sur les couches minces piézoélectriques reprend les bases théoriques de façon assez exhaustives, en les associant à des applications à l'état de l'art en ce début d'année 2010. Bien sûr, il existe des ouvrages de référence sur les matériaux piézoélectriques comme les standards de la piézoélectricité ou bien le fameux ouvrage de Royer et Dieulessaint. Il y a également de très bons ouvrages sur le phénomène ferroélectrique dont la référence Lines and Glass.
Cependant, il nous a semblé assez structurant de revisiter ces deux piliers nécessaires à une compréhension profonde des couches piézoélectriques, tout en ajoutant d'autres notions essentielles que sont le formalisme mécanique contrainte-déformation, le formalisme diélectrique et également une partie importante sur la propagation des ondes acoustiques.Matériaux piézoélectriques intégrés sur silicium [texte imprimé] / Emmanuel Defay, Directeur de publication, rédacteur en chef . - Paris : Hermès science publications-Lavoisier, 2010 . - 421 p : ill. ; 24 cm. - (Traité EGEM. Electronique et micro-électronique) .
ISBN : 978-2-7462-2991-4
Notes bibliogr. Index
Langues : Français (fre)
Mots-clés : Matériaux piézoélectriques Diélectriques Résonateurs électriques Résumé : Ce livre sur les couches minces piézoélectriques reprend les bases théoriques de façon assez exhaustives, en les associant à des applications à l'état de l'art en ce début d'année 2010. Bien sûr, il existe des ouvrages de référence sur les matériaux piézoélectriques comme les standards de la piézoélectricité ou bien le fameux ouvrage de Royer et Dieulessaint. Il y a également de très bons ouvrages sur le phénomène ferroélectrique dont la référence Lines and Glass.
Cependant, il nous a semblé assez structurant de revisiter ces deux piliers nécessaires à une compréhension profonde des couches piézoélectriques, tout en ajoutant d'autres notions essentielles que sont le formalisme mécanique contrainte-déformation, le formalisme diélectrique et également une partie importante sur la propagation des ondes acoustiques.Réservation
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Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité EL/F189-1 EL/F189-1 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F189-10 EL/F189-10 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F189-2 EL/F189-2 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F189-3 EL/F189-3 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F189-4 EL/F189-4 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F189-5 EL/F189-5 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F189-6 EL/F189-6 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F189-7 EL/F189-7 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F189-8 EL/F189-8 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F189-9 EL/F189-9 Périodique Technologie indéterminé Disponible
Titre : La nanolithographie Type de document : texte imprimé Auteurs : Stefan Landis, Directeur de publication, rédacteur en chef Editeur : Paris : Hermès science publications-Lavoisier Année de publication : 2010 Collection : Traité EGEM Sous-collection : Electronique et micro-électronique Importance : 351 p Présentation : ill. Format : 24 cm ISBN/ISSN/EAN : 978-2-7462-2446-9 Note générale : Notes bibliogr. Index Langues : Français (fre) Mots-clés : Lithographie par rayons X Résumé : Alors que le nano-monde s'ouvre à nous, les chercheurs ont disposés ces dernières années d'un magnifique terrain de jeu pour mettre au point de nouvelles technologies destinées à façonner cet espace des nanos. Au delà des défis scientifiques quelles représentent, elles apparaissent comme indispensables pour transposer la miniaturisation opérée pour la micro-électronique dans d'autres champs applicatifs, laissant entrevoir l'émergence de nouvelles fonctionnalités.
Bien plus qu'un recueil d'articles, cet ouvrage sur La nanolithographie, aborde aussi bien les principes physiques que les enjeux techniques et scientifiques de ces principales approches alternatives de nanolithographie. Destinés aux ingénieurs et chercheurs novices, La nanolithographie, permettra également aux lecteurs plus expérimentés de parfaire leurs connaissances sur des technologies ayant un potentiel bien plus vaste que l'expérience de laboratoire.La nanolithographie [texte imprimé] / Stefan Landis, Directeur de publication, rédacteur en chef . - Paris : Hermès science publications-Lavoisier, 2010 . - 351 p : ill. ; 24 cm. - (Traité EGEM. Electronique et micro-électronique) .
ISBN : 978-2-7462-2446-9
Notes bibliogr. Index
Langues : Français (fre)
Mots-clés : Lithographie par rayons X Résumé : Alors que le nano-monde s'ouvre à nous, les chercheurs ont disposés ces dernières années d'un magnifique terrain de jeu pour mettre au point de nouvelles technologies destinées à façonner cet espace des nanos. Au delà des défis scientifiques quelles représentent, elles apparaissent comme indispensables pour transposer la miniaturisation opérée pour la micro-électronique dans d'autres champs applicatifs, laissant entrevoir l'émergence de nouvelles fonctionnalités.
Bien plus qu'un recueil d'articles, cet ouvrage sur La nanolithographie, aborde aussi bien les principes physiques que les enjeux techniques et scientifiques de ces principales approches alternatives de nanolithographie. Destinés aux ingénieurs et chercheurs novices, La nanolithographie, permettra également aux lecteurs plus expérimentés de parfaire leurs connaissances sur des technologies ayant un potentiel bien plus vaste que l'expérience de laboratoire.Réservation
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Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité EL/F185-1 EL/F185-1 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F185-2 EL/F185-2 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F185-3 EL/F185-3 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F185-4 EL/F185-4 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/F185-5 EL/F185-5 Périodique Technologie indéterminé Disponible
Titre : Technologies de base en lithographie Type de document : texte imprimé Auteurs : Stefan Landis, Directeur de publication, rédacteur en chef Editeur : Paris : Hermès science publications-Lavoisier Année de publication : 2010 Collection : Traité EGEM Sous-collection : Electronique et micro-électronique Importance : 406 p Présentation : ill. Format : 24 cm ISBN/ISSN/EAN : 978-2-7462-2445-2 Note générale : Notes bibliogr. Index Langues : Français (fre) Mots-clés : Rayonnement ultraviolet Applications industrielles Photolithographie Résumé :
Toujours plus vite, plus petit et à moindre coût. Tels sont les maîtres mots des technologies qui façonnent et façonneront le "nano-monde". La lithographie est aujourd'hui un outil complexe au coeur d'un procédé technologique de fabrication de micro et nano composants. Technologie pluridisciplinaire par excellence, la lithographie repousse sans cesse les limites de l'optique, de la chimie, de la mécanique, la micro et nano fluidique.
Cet ouvrage traite des technologies et procédés incontournables et principalement utilisés dans la fabrication industrielle de microprocesseurs et autres composants électroniques. Destinés aux ingénieurs et chercheurs novices, cet ouvrage permettra aux lecteurs plus expérimentés de parfaire leurs connaissances sur des techniques en constante évolution.
Technologies de base en lithographie [texte imprimé] / Stefan Landis, Directeur de publication, rédacteur en chef . - Paris : Hermès science publications-Lavoisier, 2010 . - 406 p : ill. ; 24 cm. - (Traité EGEM. Electronique et micro-électronique) .
ISBN : 978-2-7462-2445-2
Notes bibliogr. Index
Langues : Français (fre)
Mots-clés : Rayonnement ultraviolet Applications industrielles Photolithographie Résumé :
Toujours plus vite, plus petit et à moindre coût. Tels sont les maîtres mots des technologies qui façonnent et façonneront le "nano-monde". La lithographie est aujourd'hui un outil complexe au coeur d'un procédé technologique de fabrication de micro et nano composants. Technologie pluridisciplinaire par excellence, la lithographie repousse sans cesse les limites de l'optique, de la chimie, de la mécanique, la micro et nano fluidique.
Cet ouvrage traite des technologies et procédés incontournables et principalement utilisés dans la fabrication industrielle de microprocesseurs et autres composants électroniques. Destinés aux ingénieurs et chercheurs novices, cet ouvrage permettra aux lecteurs plus expérimentés de parfaire leurs connaissances sur des techniques en constante évolution.
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Exemplaires (5)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité EL/187-1 EL/187-1 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/187-2 EL/187-2 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/187-3 EL/187-3 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/187-4 EL/187-4 Périodique Technologie indéterminé Disponible EL/187-5 EL/187-5 Périodique Technologie indéterminé Disponible
